價格: 1000.00
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[高純鍺靶材 鍺銻碲靶材]
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高純鍺靶材鍺銻碲靶材金屬合金靶材
高純鍺靶材
純度:99.999%
符號:Ge
原子量:72.61
熔點:937.2℃
沸點:2830℃
密度:5.32
折射率(波長nm):4.4(2000nm)
蒸發(fā)方式:電子束 石墨舟
坩堝:Al2O3,石英
透明范圍/nm:1700-100000
外觀:銀灰色晶體
在10-4Torr蒸發(fā)溫度:1167℃
莫氏硬度:6.0-6.5
薄膜的機械和化學性質(zhì):由BE源得極好膜層
性能:室溫下,晶態(tài)鍺性脆,可塑性很??;鍺的化學性質(zhì)穩(wěn)定,常溫下不與空氣或水蒸氣作用,但在600-700℃時,很快生成二氧化鍺;在加熱時,鍺能在氧氣和溴蒸汽中燃燒;鍺與碳不起作 用,所以在石墨坩堝中熔化時不會被碳所污染;
高純鍺的優(yōu)點:具有高的折射指數(shù)、低吸收、低色散、容易加工、有良好的機械強度、不吸潮等;
應用:紅外膜
用途:廣泛應用于紅外光學器件、電子工業(yè)、光導纖維、醫(yī)學、冶金、能源和太陽能電池;
注冊資金:尚未完善
聯(lián)系人:張文明
固話:010-51617358
移動手機:13520577626
企業(yè)地址:北京市 北京市 海淀區(qū)